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文章来源:乱弹   发布时间:2020-12-03 07:01:45  【字号:     】  

秒速赛车-官网|平台紧要之处,脱欧须敲黑板:有小秒速赛车-官网|平台道消息传来 ,中国动向持有蚂蚁集团股份价值19亿元

启动火山喷发的,影响当然是7月20日晚间来自蚂蚁集团那则确认上市的官宣。虽然坊间传言已久,影响乃至在此前的三月份曾引发市场一阵躁动,然而直至这一刻,靴子终于落地。7.11亿活跃用户,持续2000亿美元的估值。有人测算,持续开盘首日若涨幅超过50%,则很可能碾压工商银行(601398. SH)和中国平安(601318. SH) ,甚至取代贵州茅台(600519. SH)本土上市公司市值王的地位。可以想见,任何与其发生瓜葛的企业,均面临着想象空间。秒速赛车-官网|平台

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按照分类 ,伦敦市场将A股中所谓“蚂蚁概念股”大致分为五类,即直接参股、间接参股、实控人参股、被参股及相关业务合作方,总计44家上市公司。那么,跌跌不同概念分类的公司在7月20日前后股价发生了何种波动?这种波动究竟出于精确的收益计算抑或仅仅是一种“博傻” ,跌跌参与波动的各方能成为莫布森所言“概率的赢家”吗?不休不妨秒速赛车-官网|平台择一二看来。中国人寿(601628. SH)、脱欧新华保险(601336. SH)、脱欧中国太保(601601. SH)都参与了对蚂蚁集团的直接投资,持股额在1.60%至0.65%不等。有意味的是,中国人寿与新华保险在20号当天双双“点映式”涨停,而21日股价虽然高开,但前者最终仅升3.34%至39.24元/股,后者甚至全天倒跌2.35%至55.08元/股。同时 ,两家公司截至目前的全年最高光表现分别出现在一个月后,各自收得50.88元/股及68.75元/股。截至9月4日尾盘,中国人寿报42.5元/股,新华保险报58.1元/股。相比两位同业,影响中国太保似乎受到更小影响。7月21日同样以跌1.23%至31.29元/股谢幕,影响而其9月4日只收于30.18元/股,较7月7日创下的35元/股年内高点已落后14%。

在间接参股阵营中,持续巨人网络(002558. SZ)、持续健康元(600380. SH)因两家公司实控人家族与马云互动交好多年 ,以致分外引人瞩目。堪称同步,两家公司也分别在7月21、22日各自摸高至年内最高点的23.6元/股和22.47元/股。而至9月4日,又休戚与共回落至20.76元/股及18.81元/股。可堪咂摸的是,伦敦被市场归于实控人参股类别的七匹狼(002029. SZ),7月21日以10%涨停触达的6.16元/股水平线 ,同样是年内最高。公司自主研发、跌跌生产的新型绿色钎料为客户所认可,跌跌产品符合欧盟环保指令(ROHS)要求,为客户降低了生产成本,收到众多客户的一致好评,被中国制冷产业联盟授予“副会长单位”的荣誉称号。

公司与国内多个高校建立了长期的技术合作关系,不休技术力量雄厚,不休生产设备先进,检测手段完善,管理严格,产品质量可靠,并可根据用户需要开发新型的钎焊材料。我公司产品广泛应用于制冷、脱欧冰箱、脱欧空调、航空航天,军工核电,电力电器,钻探采掘,首饰等行业,产品规格齐全,可提供焊条、焊丝、焊环 、扁丝、盘丝、带材等各种规格形状的钎焊材料。我们的产品不仅畅销中国市场,影响产品市场覆盖率高达60-70%,影响其中包括格力、美的,丹佛斯 、松下 、LG、三星等国际和国内知名企业,还远销中东,东南亚、欧美等国家,深受用户欢迎。公司的宗旨是“为客户创造精品,持续为员工创造价值,持续为社会创造财富”,以自主创新,科学发展的理念为主线,以优质的产品,优良的服务为承诺,力争把“七星钎焊”牌钎料发展成为受市场欢迎的产品,竭诚满足国内外客户的需求,共同拓展业务,精诚合作。

光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶,再用光线(一般是紫外光、深紫外光 、极紫外光)透过掩模照射在硅片表面,被光线照射到的光刻胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射/未被照射的光刻胶,就实现了电路图从掩模到硅片的转移。

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光刻胶国产化全面加速,中国正全力攻坚EUV光刻胶光刻完成后对没有光刻胶保护的硅片部分进行刻蚀,最后洗去剩余光刻胶,就实现了 半导体器件在硅片表面的构建过程。光刻根据所采用正胶与负胶之分,划分为正性光刻和负性光刻两种基本工艺。在正性光刻中,正胶的曝光部分结构被破坏,被溶剂洗掉 ,使得光刻胶上的图形与掩模版上图形相同。

相反地,在负性光刻中,负胶的曝光部分会因硬化变得不可溶解,掩模部分则会被溶剂洗掉,使得光刻胶上的图形与掩模版上图形相反。光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的30%,耗时约占整个芯片工艺的40%~50%,是芯片制造中最核心的工艺。光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。那么什么是光刻胶呢?光刻胶是一类通过光束、电子束、离子束等能量辐射后,溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料,在集成电路和半导体分立器件的微细加工中有着广泛的应用。

根据其应用领域、分辨率、对紫外光反应特性可以进行如下分类:最早时期光刻胶是应用在印刷工业领域 ,到 20 世纪 20 年代才被逐渐用在印刷电路板领域,20 世纪 50 年代开始用于半导体工业领域。

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20 世纪 50 年代末,Eastman Kodak和 Shipley 公司分别设计出适合半导体工业需要的正胶和负胶 。光刻胶难度非常高,光刻胶对分辨率 、对比度、敏感度,此外还有粘滞性黏度、粘附性等要求极高。

秒速赛车-官网|平台其中分辨率描述形成的关键尺寸;对比度描述光刻胶从曝光区到非曝光区的陡度;敏感度为光刻胶上产生一个良好的图形所需一定波长光的最小能量值。诸多技术参数限制构成了光刻胶的技术壁垒。国内光刻胶需求量远大于本土产量 ,且差额逐年扩大。秒速赛车-官网|平台由于中国大陆光刻胶市场起步晚,目前技术水平相对落后 ,生产产能主要集中在PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等中低端产品,TFT-LCD、半导体光刻胶等高技术壁垒产品产能极少 。目前全球光刻胶主要企业有日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学、信越化学、美国罗门哈斯等,市场集中度非常高,所占市场份额超过85%。因为光刻机根据光源可以分为5代,分别是G线、I线、KrF 、ArF、EUV ,所以光刻胶也有五大类。

目前,中国已经可以量产G线、I线、KrF三大类光刻胶。比如北京科华现代化光刻胶生产线主要以 g 线和 i 线正胶为主,分辨率最高能够达到 350nm 的水平。

目前建成 g/i 线正胶生产线(500 吨/年)和正胶配套试剂生产线(1000 吨/年)目前国家累计拨款2亿人民币,地方政府拨款2亿人民币给南大光电,南大光电是工业园区与南京大学于2000年底合作研发的MO源高新技术产业化企业。

而南大光电通过非公开发行股份募集2亿元人民币,累计6亿项目进行ArF光刻胶项目研发,这种光刻胶可以用于28nm到7nm工艺的先进工艺。目前该项目且已经通过验收等待量产,量产预计需要到2020年底 ,目前宁波南大光电所建工厂的是该项目配套原材料生产线。

南大光电计划通过3年的建设、投产及实现销售,达到年产25吨 193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模,产品将满足集成电路行业需求标准。而在掌握了ArF光刻胶技术之后,南大光电正在全力攻克EUV光刻胶技术 ,可以说,中国光刻胶国产化全面加速,让我们一起期待!三星和台积电同样使用AMSL的深紫外光刻机,但是为什么良率和产量没有台积电高呢?三星非常的疑惑,原来除了光刻机本身的优势,制造过程中的创新也是更加重要的环节,下面分析台积电的法宝——EUV光罩干清洁技术,希望对我们的半导体发展提供一个创新的思路。台积电通过去除附着在 EUV 光刻 (EUVL) 工艺中使用的 EUV 光罩上的颗粒,从使用大量传统化学溶液和纯净水的湿清洗工艺中引入更环保的"干清洁技术"(Dry-Clean Technique),并在所有量产生产线上引入更环保的"干清洁技术",EUV工艺中的制造产量正在提高。

秒速赛车-官网|平台干清洁技术不同于"干洗技术",通过物理力去除颗粒而不是化学溶液或纯水来清洁晶圆表面,通过逐粒分析粘附的颗粒进行成分分析,通过识别来源来消除其来源,使颗粒不粘附在面罩上,这就是台积电的独特称呼:"Dry-Clean Technique "台积电的质量和可靠性部门与技术开发和Fab操作部门合作,从2018年开始联合开发成分分析方法,以了解粒子的真实来源,以解决从2018年开始落在面罩上的颗粒导致产量下降的问题。

从分析技术精确识别下降源以来,粒子可以完全消除 。通过分析掉落的粒子和消除污染源,每10000个掩膜粘附粒子数量从传统的几百个减少到个位数字,到2020年 ,其减少率达到99%。

据该公司称,自引进以来,节水量约为735吨,节约化学品约36吨。TSMC 利用这种创新的 EUV 面罩干清洁技术,不仅实现了全球首屈一指的 EUV 工艺的大规模生产,还提高了资源的利用率。

秒速赛车-官网|平台除了减少超纯水和化学品外,面罩循环的频率还基于生产周期时间的控制和管理系统。自 2018 年推出以来,EUV 面罩的老化周期增加了 80% 以上,延长了高级 EUV 面罩的使用寿命,累计提高 20 亿新台币(约 70 亿美元)。2019 年,台积电成功地实现了 EUV 面罩的干清洁技术。因此,在 2020 年 1 月,所有负责 EUV 的 300mm 晶圆晶圆(Fab12B、15B 和 18)都采用了已完成的自动大规模生产系统。

目前,台积电的质量和可靠性部门正在不断分析较小的跌落颗粒和清洁技术,并将继续致力于环保绿色制造,为未来先进工艺的质量控制奠定基础。目前,英特尔和三星正也在加速将EUV光刻引入先进逻辑器件的原型,并且导入大规模生产线,但产量下降 ,良率有限。

如果说光刻机是基础的话,台积电通过大规模生产,建立了自己的成功经验和创新实践,背后,可能有各种产量、质量改善措施和方法,可能是微创新,也可能是持续的分析和质量、数据库建设,以及自动化系统开发。所以生产就是不断的总结与创新,在设备的基础上找到操作上的创新,这也是对我们半导体产业的一个小小的提醒。

秒速赛车-官网|平台#中国芯事# 三星和台积电同样拥有深紫外光刻机,为何台积电更胜一筹呢?下面有个例子可以侧面说明一下: 台积电通过去除附着在 EUV 光刻 (EUVL) 工艺中使用的 EUV 光罩上的颗粒,从使用大量传统化学溶液和纯净水的湿清洗工艺中引入更环保的"干清洁技术"(Dry-Clean Technique),并在所有量产生产线上引入更环保的"干清洁技术" ,EUV工艺中的制造产量正在提高。干清洁技术不同于"干洗技术",通过物理力去除颗粒而不是化学溶液或纯水来清洁晶圆表面,通过逐粒分析粘附的颗粒进行成分分析 ,通过识别来源来消除其来源,使颗粒不粘附在面罩上,这就是台积电的独特称呼 :"Dry-Clean Technique "。

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